실리콘은 반도체에 주로 사용되는 단결정으로 1.2μm~6μm IR 영역에서 비흡수성이다.여기서는 IR 영역 응용을 위한 광학 부품으로 사용됩니다.
실리콘은 주로 3~5 마이크론 대역의 광학 창과 광학 필터 생산용 기판으로 사용됩니다.연마된 표면을 가진 큰 실리콘 블록은 물리학 실험에서 중성자 타겟으로도 사용됩니다.
실리콘은 CZ(초크랄스키 당김 기술)로 성장하며 9미크론의 흡수 밴드를 생성하는 일부 산소를 포함합니다.이를 방지하기 위해 실리콘은 FZ(Float-Zone) 공정으로 준비할 수 있습니다.광학 실리콘은 일반적으로 10미크론 이상의 투과율을 높이기 위해 약하게 도핑됩니다(5~40ohm cm).실리콘은 30~100 마이크론의 추가 통과 대역을 갖고 있으며 이는 보상되지 않은 매우 높은 저항률의 재료에만 효과적입니다.도핑은 일반적으로 붕소(p형)와 인(n형)입니다.
애플리케이션:
• 1.2~7μm NIR 용도에 적합
• 광대역 3~12μm 반사 방지 코팅
• 무게에 민감한 응용 분야에 이상적
특징:
• 이러한 실리콘 창은 1μm 이하 영역에서는 투과하지 않으므로 주요 응용 분야는 IR 영역입니다.
• 열전도율이 높아 고출력 레이저 미러로 사용하기에 적합하다.
▶실리콘 창은 반짝이는 금속 표면을 가지고 있습니다.반사 및 흡수하지만 가시 영역에서는 투과하지 않습니다.
▶실리콘 창 표면 반사로 인해 투과율이 53% 손실됩니다.(27%에서 측정된 데이터 1 표면 반사)
전송 범위: | 1.2~15μm(1) |
굴절률 : | 3.4223 @ 5μm (1) (2) |
반사 손실: | 5μm(2면)에서 46.2% |
흡수계수 : | 0.01cm-13μm에서 |
레스트스트라렌 피크: | 해당사항 없음 |
dn/dT: | 160x10-6/°C (3) |
dn/dμ = 0 : | 10.4μm |
밀도 : | 2.33g/cc |
녹는 점 : | 1420℃ |
열 전도성 : | 163.3Wm-1 K-1273K에서 |
열 팽창 : | 2.6x10-6/ 20°C에서 |
경도 : | 누프 1150 |
비열 용량 : | 703JKg-1 K-1 |
유전 상수: | 10GHz에서 13 |
영률(E): | 131GPa (4) |
전단 계수(G): | 79.9GPa (4) |
벌크 계수(K): | 102GPa |
탄성계수 : | C11=167;씨12=65;씨44=80 (4) |
겉보기 탄성 한계: | 124.1MPa(18000psi) |
푸아송 비율: | 0.266 (4) |
용해도 : | 물에 불용성 |
분자 무게 : | 28.09 |
클래스/구조: | 큐빅 다이아몬드, Fd3m |