실리콘은 주로 반도체에 사용되는 단결정으로 1.2μm~6μm IR 영역에서 비흡수성이다.여기서는 IR 영역 애플리케이션용 광학 부품으로 사용됩니다.
실리콘은 주로 3~5미크론 대역의 광학창과 광학필터 생산용 기판으로 사용된다.표면이 광택이 나는 큰 실리콘 블록도 물리학 실험에서 중성자 표적으로 사용됩니다.
실리콘은 Czochralski 풀링 기술(CZ)에 의해 성장되며 9미크론에서 흡수 밴드를 일으키는 약간의 산소를 포함합니다.이를 방지하기 위해 FZ(Float-Zone) 공정으로 실리콘을 준비할 수 있습니다.광학 실리콘은 일반적으로 10미크론 이상의 최상의 전송을 위해 약하게 도핑됩니다(5~40ohm cm).실리콘은 30에서 100 미크론의 추가 통과 대역을 가지며 이는 매우 높은 저항 비보상 재료에서만 효과적입니다.도핑은 일반적으로 붕소(p형) 및 인(n형)입니다.
애플리케이션:
• 1.2~7μm NIR 용도에 적합
• 광대역 3~12μm 무반사 코팅
• 중량에 민감한 애플리케이션에 이상적
특징:
• 이 실리콘 윈도우는 1µm 이하 영역에서는 투과하지 않으므로 주요 응용 분야는 IR 영역입니다.
• 열전도율이 높아 고출력 레이저 미러로 사용하기에 적합하다.
▶실리콘 창은 반짝이는 금속 표면을 가지고 있습니다.반사 및 흡수하지만 가시 영역에서는 전송하지 않습니다.
▶실리콘 창 표면 반사로 인해 투과율이 53% 감소합니다.(27%에서 측정 데이터 1 표면 반사)
전송 범위: | 1.2~15μm(1) |
굴절률 : | 3.4223 @ 5μm (1) (2) |
반사 손실: | 5μm에서 46.2%(2면) |
흡수 계수: | 0.01cm-13μm에서 |
레스슈트랄렌 피크: | 해당 없음 |
dn/dT : | 160x10-6/°C (3) |
dn/dμ = 0: | 10.4㎛ |
밀도 : | 2.33g/cc |
녹는 점 : | 1420 °C |
열 전도성 : | 163.3W·m-1 K-1273K에서 |
열 팽창 : | 2.6 x 10-6/ 20°C에서 |
경도 : | 누프 1150 |
비열용량 : | 703Jkg-1 K-1 |
유전 상수: | 10GHz에서 13 |
영률(E) : | 131GPa (4) |
전단 계수(G): | 79.9GPa (4) |
벌크 모듈러스(K): | 102GPa |
탄성 계수 : | C11=167;씨12=65;씨44=80 (4) |
겉보기 탄성 한계: | 124.1MPa(18000psi) |
포아송 비율 : | 0.266 (4) |
용해도 : | 물에 불용성 |
분자 무게 : | 09.28 |
클래스/구조: | 큐빅 다이아몬드, Fd3m |